| 低温离子镀TiN薄膜性能研究 | |
| 刘技文; 于力; 赵杰; 王慧君 | |
| 2002 | |
| 关键词 | 离子镀 低温离子镀 Tin薄膜 性能 金属覆层 耐磨性 |
| 完成单位 | 天津理工学院;中国科学院金属腐蚀与防护研究所 |
| 英文摘要 | 研究低温条件下(＜450℃)离子镀TiN的可行性及对性能的影响，发现在150～450℃模材的显微硬度、耐磨性、显微结构均能满足实用要求，添加稀土元素增加模材与基材的结合力。对进一步开展应用有着重要的指导意义。 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 成果 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/68542 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘技文,于力,赵杰,等. 低温离子镀TiN薄膜性能研究. 2002. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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