| 低温渗铬涂层及其制备方法和应用 |
| 中国科学院金属研究所
|
| 2008
|
| 关键词 | 渗铬涂层
复合电镀
扩散渗铬
|
| 完成单位 | 中国科学院金属研究所;
|
| 英文摘要 | 本发明公开一种涂层制备技术，具体地说是两步法低温渗铬涂层及其制备方法和应用。渗铬涂层成分由渗入的铬和来自复合镀层金属M及少量稀土氧化物组成，其中稀土氧化物RexOy为Re＝Ce、Y、La等，按质量份数计，渗铬涂层中表面层中铬含量为50～90份，其余为M和微量稀土元素氧化物，其中M来自M-RexOy复合镀层。制备过程如下：以金属Ni、Fe或Co、碳钢或低合金钢为基材，在基材上采用复合电镀方法制得纳米晶的M-RexOy复合镀层，然后在600℃～800℃扩散渗铬，获得稀土氧化物改性的渗铬涂层。本发明使传统渗铬工艺的温度由1000℃以上降低为600℃～800℃，且工艺简单，易于推广，涂层在高温下可热生长保护性的致密Cr_2O_3氧化膜，抗氧化好。200510047407.0 |
| 语种 | 中文
|
| 文献类型 | 成果
|
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/68543
|
| 专题 | 中国科学院金属研究所
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
中国科学院金属研究所. 低温渗铬涂层及其制备方法和应用. 2008.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论