| 改性介孔二氧化硅/有机大分子复合磨料及其化学机械抛光液的制备 | |
| 张劲松; 张军旗; 杨永进; 曹小明; 刘强; 李明天; 梁燕; 杨振明; 谢素箐; 江小平; 张革 | |
| 2004 | |
| 关键词 | 复合磨料 化学机械抛光液 |
| 完成单位 | 中国科学院金属研究所;美国MTI公司;沈阳科晶设备制造有限公司 |
| 英文摘要 | 发明了单分散、规则形状、尺寸均匀介孔氧化硅和铈、铁离子改性介孔氧化硅粉体的制备方法。开发出新型化学机械抛光磨料和抛光液，对二氧化硅介电层表现出一定的抛光速率和显著的低表面损伤特性；铈、铁离子改性介孔氧化硅抛光磨料对金属铜表现出非常高的光速率，可望成为气相白炭黑以及其它类型实心二氧化硅纳米磨料的换代产品。该项目创造性地将纳米介孔粉体抛光磨料使用，打破了磨料必须是实心粉体的界限，拓宽了介孔材料的应用范围。 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 成果 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/68590 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张劲松,张军旗,杨永进,等. 改性介孔二氧化硅/有机大分子复合磨料及其化学机械抛光液的制备. 2004. |
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