| 金属化电容器用真空镀铝新材料 |
| 韩耀文; 李国华
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| 1985
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| 关键词 | 电工材料
真空镀铝膜
金属化云母电容器
材料
电容器
真空镀铝材料
金属化电容器
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| 完成单位 | 中国科学院金属研究所;阜新市电子元件厂
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| 英文摘要 | 该成果针对金属化电容器对铝膜的要求，在实验室系统研究成功的基础上，采用先进的真空镀膜设备进行了扩大试验和多批次试生产，研制成功真空镀铝新工艺，生产出高质量的金属化电容器用真空镀铝膜新材料。用以制成金属化电容器，深受用户工厂欢迎，证明研制的铝膜质量达到国际先进水平，在国内领先。利用研制的工艺和国产材料蒸镀生产的铝膜材料针孔数≤１／ｍ，无折皱、划伤、漏镀、翘曲、变形等缺陷，屏蔽线偏移≤０．５ｍ／ｍ，反射率高达８０－９０％，其厚度偏差为２－３±０．７Ω／口。这些技术指标均达到日本ＪＩＳ技术标准。这项研制成果用于阜新电子元件厂及宁波电容器厂，正式投产二年。每纯铝膜产品纯利税约为２－３万元／吨，年产１８０吨。成果扩大应用于十馀工厂。 |
| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 成果
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/68740
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
韩耀文,李国华. 金属化电容器用真空镀铝新材料. 1985.
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