| 磁控溅射PtSi/p-Si异质薄膜界面结构 | |
| 殷景华; 蔡伟; 王明光; 李美成; 赵连城 | |
| 2001-10-01 | |
| 会议名称 | 第四届中国功能材料及其应用学术会议 |
| 会议录名称 | 第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集 |
| 会议日期 | 2001-10-01 |
| 会议地点 | 厦门 |
| 出版地 | 北京 |
| 出版者 | 中国仪器仪表学会 |
| 摘要 | 金属硅化物的制备方法和工艺条件对硅化物的形成及分布有显著的影响,从而影响其显微结构.本文采用高分辨电镜观察薄膜的界面结构,研究结果表明,溅射方法制备的PtSi/p-Si异质薄膜分为三种典型结构:单层薄膜、多层薄膜和岛状薄膜,并分析了各自的特征. |
| 部门归属 | 哈尔滨理工大学应用科学学院(黑龙江哈尔滨),哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(黑龙江哈尔滨);哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(黑龙江哈尔滨);中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室(辽宁沈阳); |
| 关键词 | Ptsi 薄膜 界面结构 磁控溅射 |
| 主办者 | 中国仪器仪表学会 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/69355 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷景华,蔡伟,王明光,等. 磁控溅射PtSi/p-Si异质薄膜界面结构[C]. 北京:中国仪器仪表学会,2001. |
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