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第一原理研究空位和Si与Al的∑5(210)[001]晶界的相互作用
程大勇; 王绍青; 叶恒强
2002-10-01
会议名称2002年中国材料研讨会
会议录名称2002年材料科学与工程新进展
会议日期2002-10-01
会议地点北京
出版地北京
出版者冶金工业出版社
摘要在密度泛函理论框架下,用第一原理赝势方法,在Rice-Wang模型下研究了空位和杂质元素Si与Al的∑5(210)[001]晶界的相互作用.通过计算给出了偏析元素Si在晶界面上的位置.通过对含有空位的晶界模型计算给出了空位的稳定位置.同时通过对偏析元素在界面和表面的偏聚能ΔE<,gb>和ΔE<,s>的计算,表明偏析元素Si对于Al∑5(210)[001]的晶界是一种直接致脆元素.
部门归属中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室(沈阳)
关键词Al 晶界 第一原理 Si 空位 杂质元素 材料缺陷
主办者中国材料研究学会
语种中文
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70021
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
程大勇,王绍青,叶恒强. 第一原理研究空位和Si与Al的∑5(210)[001]晶界的相互作用[C]. 北京:冶金工业出版社,2002.
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