γ-APS处理对有机(薄层)/达克罗复合体系EIS行为的影响

IMR OpenIR

	γ-APS处理对有机(薄层)/达克罗复合体系EIS行为的影响
	刘建国; 殷跃军; 韩长志; 严川伟
	2006-05
会议名称	2006年全国腐蚀电化学及测试方法学术会议
会议录名称	2006年全国腐蚀电化学及测试方法学术会议论文集
会议日期	2006-05
会议地点	厦门
摘要	通过EIS研究了醇酸、聚氨酯、苯丙乳液以及氟树脂四种有机(薄层)/达克罗复合涂层体系在3.5﹪NaCl中的腐蚀行为.结果表明γ-APS处理形成的硅烷膜可以抑制腐蚀介质在浸泡初期的渗透,但也一定程度上抑制了铬化合物的有效钝化以及腐蚀产物的沉积.结合极化电位下EIS谱图,确认γ-APS处理对复合体系腐蚀行为的影响在于通过硅烷膜的障碍阻挡作用减小了腐蚀反应发生的活性面积,抑制了底物(达克罗)的腐蚀反应.
部门归属	中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;沈阳市航达科技有限责任公司,110043;
关键词	达克罗涂层耐腐蚀性有机硅烷预处理
主办者	中国腐蚀与防护学会
语种	中文
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70432
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	刘建国,殷跃军,韩长志,等. γ-APS处理对有机(薄层)/达克罗复合体系EIS行为的影响[C],2006.