电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响

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	电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响
	陈崇木; 崔宇; 张涛; 邵亚薇; 孟国哲; 王福会; 李晓刚; 董超芳
	2008-07
会议名称	2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
会议录名称	2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
会议日期	2008-07
会议地点	沈阳
摘要	本文用电化学法研究了纯镁在未除氧和除氧的下不同厚度薄液膜下的腐蚀行为。结果表明：薄液膜下纯镁腐蚀的阴极过程受氢还原控制；液膜厚度的减小使其阴极过程和阳极过程都受到抑制,对阳极过程影响很大；氧气的存在对阳极过程的影响很大,并使得纯镁表面易于生成表面膜,表面膜更加连续和致密。
部门归属	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院腐蚀与防护实验室,哈尔滨,150001;哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院腐蚀与防护实验室,哈尔滨,150001;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验窒,沈阳,110016;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;北京科技大学腐蚀与防护中心,北京,100083;北京科技大学腐蚀与防护中心,北京,100083;
关键词	纯镁材料电化学腐蚀液膜厚度电极过程
主办者	中国腐蚀与防护学会
语种	中文
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70881
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈崇木,崔宇,张涛,等. 电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响[C],2008.