A silica co-electrodeposition route to highly active Ni-based film electrodes

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IMR OpenIR > 中国科学院金属研究所 > 期刊论文

题名:	A silica co-electrodeposition route to highly active Ni-based film electrodes
作者:	L. K. Wu; J. M. Hu; J. Q. Zhang; C. N. Cao
发表日期:	2013
刊名:	Journal of Materials Chemistry A
相关网址:	<Go to ISI>://WOS:000325413000026
Appears in Collections:	中国科学院金属研究所_期刊论文

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L. K. Wu,J. M. Hu,J. Q. Zhang,et al. A Silica Co-electrodeposition Route To Highly Active Ni-based Film Electrodes[J]. Journal Of Materials Chemistry A,2013,1(41):12885-12892.

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