Advanced   Register
IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 期刊论文

题名: 电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计
作者: 赵彦辉;  郎文昌;  肖金泉;  宫骏;  孙超
发表日期: 2013-4-15
摘要: 电弧离子镀工艺中电弧蒸发产生的大颗粒污染严重影响了所沉积涂层的性能。为了从源头上解决大颗粒难题,本文提出了一种新的旋转横向磁场的设计思路,通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。通过有限元模拟磁场的分布,对旋转横向磁场控制的电弧离子镀弧源进行了优化设计。并根据方案制作了旋转磁场发生装置及其电源,使该弧源的旋转磁场具有多模式可调频调幅的功能,用以改善弧斑的放电形式,提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少靶材大颗粒的发射,用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜,以拓展电弧离子镀的应用范围。
刊名: 真空科学与技术学报
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_期刊论文

Files in This Item:

There are no files associated with this item.




Recommended Citation:
赵彦辉,郎文昌,肖金泉,等. 电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计[J]. 真空科学与技术学报,2013(4):387-391.
Service
 Recommend this item
 Sava as my favorate item
 Show this item's statistics
 Export Endnote File
Google Scholar
 Similar articles in Google Scholar
 [赵彦辉]'s Articles
 [郎文昌]'s Articles
 [肖金泉]'s Articles
CSDL cross search
 Similar articles in CSDL Cross Search
 [赵彦辉]‘s Articles
 [郎文昌]‘s Articles
 [肖金泉]‘s Articles
Scirus search
 Similar articles in Scirus
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院金属研究所  -Feedback
Powered by CSpace