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电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计
赵彦辉; 郎文昌; 肖金泉; 宫骏; 孙超
2013-04-15
Source Publication真空科学与技术学报
Issue4Pages:387-391
Abstract电弧离子镀工艺中电弧蒸发产生的大颗粒污染严重影响了所沉积涂层的性能。为了从源头上解决大颗粒难题,本文提出了一种新的旋转横向磁场的设计思路,通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。通过有限元模拟磁场的分布,对旋转横向磁场控制的电弧离子镀弧源进行了优化设计。并根据方案制作了旋转磁场发生装置及其电源,使该弧源的旋转磁场具有多模式可调频调幅的功能,用以改善弧斑的放电形式,提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少靶材大颗粒的发射,用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜,以拓展电弧离子镀的应用范围。
description.department中国科学院金属研究所材料表面工程研究部 ; 温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室
Keyword电弧离子镀 大颗粒污染 旋转横向磁场 弧源设计
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/71817
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
赵彦辉,郎文昌,肖金泉,等. 电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计[J]. 真空科学与技术学报,2013(4):387-391.
APA 赵彦辉,郎文昌,肖金泉,宫骏,&孙超.(2013).电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计.真空科学与技术学报(4),387-391.
MLA 赵彦辉,et al."电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计".真空科学与技术学报 .4(2013):387-391.
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