| 以电沉积二氧化硅薄膜为模板电沉积制备光电性能增强的Cu_2O薄膜 | |
| 伍廉奎; 胡吉明; 张鉴清 | |
| 2012 | |
| 会议名称 | 中国化学会第28届学术年会 |
| 页码 | 1 |
| 会议日期 | 2012 |
| 会议地点 | 中国四川成都 |
| 摘要 | <正>氧化亚铜由于具有较窄的带隙能,且在可见光区有吸收,在光电化学中有重要的应用。本文采用两步法电沉积制备了以二氧化硅为模板的Cu2O,并研究了其光电化学性质。首先,我们在TEOS/CuCl2/Na2(EDTA)体系中采用电化学共沉积技术,制备出了多孔性的SiO2/Cu复合膜;其次,采用HF将该复合膜中的SiO2刻蚀 |
| 部门归属 | 浙江大学化学系 ; 中国科学院金属研究所腐蚀防护国家重点实验室 |
| 关键词 | 电沉积 二氧化硅 氧化亚铜 光电化学 |
| 主办者 | 中国化学会 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/72086 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 伍廉奎,胡吉明,张鉴清. 以电沉积二氧化硅薄膜为模板电沉积制备光电性能增强的Cu_2O薄膜[C],2012:1. |
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