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EB-PVD在热障涂层中的研究及应用
王栋; 巴德纯; 杜广煜; 陈小龙; 宫骏
2013-09-25
Source Publication真空
Issue5Pages:6-8
AbstractEB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术。在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上。由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层致密,化学成分易于精确控制,可得到柱状晶组织,无污染,热效率高,基片与薄膜之间有较强的结合力等诸多优点,已被广泛应用于国防和民用领域。本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。
description.department东北大学机械工程与自动化学院 ; 中国科学院金属研究所
Keyword电子束物理气相沉积 热障涂层 工艺特点 改进
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/72312
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
王栋,巴德纯,杜广煜,等. EB-PVD在热障涂层中的研究及应用[J]. 真空,2013(5):6-8.
APA 王栋,巴德纯,杜广煜,陈小龙,&宫骏.(2013).EB-PVD在热障涂层中的研究及应用.真空(5),6-8.
MLA 王栋,et al."EB-PVD在热障涂层中的研究及应用".真空 .5(2013):6-8.
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