EB-PVD在热障涂层中的研究及应用

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题名:	EB-PVD在热障涂层中的研究及应用
作者:	王栋; 巴德纯; 杜广煜; 陈小龙; 宫骏
发表日期:	2013-9-25
摘要:	EB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术。在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上。由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层致密,化学成分易于精确控制,可得到柱状晶组织,无污染,热效率高,基片与薄膜之间有较强的结合力等诸多优点,已被广泛应用于国防和民用领域。本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。
刊名:	真空
Appears in Collections:	中国科学院金属研究所_期刊论文

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王栋,巴德纯,杜广煜,等. Eb-pvd在热障涂层中的研究及应用[J]. 真空,2013(5):6-8.

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