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脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响
李凤岐; 冯丹; 赵彦辉; 于宝海
2014-10-15
Source Publication真空科学与技术学报
Issue10Pages:1040-1046
Abstract采用离子束辅助电弧离子镀技术在高速钢基体上制备TiN/Cu纳米复合薄膜,考察了基体脉冲负偏压对薄膜成分、结构及硬度的影响。用X射线光电子谱、X射线衍射、扫描电镜、透射电镜和纳米压痕等方法分别测试了薄膜的化学成分、结构、表面形貌、硬度以及弹性模量。结果表明,在氮离子束的轰击作用下,随着脉冲偏压幅值从-100 V增加到-900 V时,薄膜中Cu含量先增加而后略有降低,在1.05%~2.50%(原子比)范围内变化。同时,脉冲偏压对薄膜的结构也有明显影响,在-100 V出现TiN(111)择优取向,当基体偏压增加到-300 V以上时,择优取向改变为TiN(220)择优。薄膜的Cu2p峰均对应纯金属Cu,薄膜的晶粒尺寸约在11~17 nm范围内变化。硬度和弹性模量随着偏压幅值增加而增大,当偏压为-900 V时,薄膜硬度和弹性模量达到最大值,分别为29.92 GPa,476 GPa,对应的铜含量为1.91%。
description.department沈阳理工大学理学院 ; 中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部
KeywordTin/cu纳米复合膜 离子束辅助沉积 电弧离子镀 脉冲偏压 硬度
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73557
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
李凤岐,冯丹,赵彦辉,等. 脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响[J]. 真空科学与技术学报,2014(10):1040-1046.
APA 李凤岐,冯丹,赵彦辉,&于宝海.(2014).脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响.真空科学与技术学报(10),1040-1046.
MLA 李凤岐,et al."脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响".真空科学与技术学报 .10(2014):1040-1046.
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