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题名: 二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响
作者: 刘明明;  尹桂来;  刘福春;  唐囡;  韩恩厚;  万军彪;  邓静伟
发表日期: 2014-9-25
摘要: 使用两步插层方法制备了插层蒙脱土,用红外光谱(IR)和X射线衍射(XRD)图谱对插层效果进行了表征。结果表明,十八烷基胺以及8-羟基喹啉已进入蒙脱土层间,蒙脱土层间距分别由1.17 nm增加到1.57 nm和1.82 nm。EIS结果显示插层蒙脱土显著提高了环氧涂层的耐蚀性。
刊名: 材料研究学报
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刘明明,尹桂来,刘福春,等. 二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响[J]. 材料研究学报,2014(9):668-674.
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