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二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响
刘明明; 尹桂来; 刘福春; 唐囡; 韩恩厚; 万军彪; 邓静伟
2014-09-25
发表期刊材料研究学报
期号9页码:668-674
摘要使用两步插层方法制备了插层蒙脱土,用红外光谱(IR)和X射线衍射(XRD)图谱对插层效果进行了表征。结果表明,十八烷基胺以及8-羟基喹啉已进入蒙脱土层间,蒙脱土层间距分别由1.17 nm增加到1.57 nm和1.82 nm。EIS结果显示插层蒙脱土显著提高了环氧涂层的耐蚀性。
部门归属中国科学院金属研究所中国科学院核用结构材料与安全性评价重点实验室 ; 国网江西省电力科学研究院
关键词有机高分子材料 蒙脱土 插层剂 防腐蚀涂料 输变电设备
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73571
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘明明,尹桂来,刘福春,等. 二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响[J]. 材料研究学报,2014(9):668-674.
APA 刘明明.,尹桂来.,刘福春.,唐囡.,韩恩厚.,...&邓静伟.(2014).二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响.材料研究学报(9),668-674.
MLA 刘明明,et al."二次插层蒙脱土的制备及其对环氧涂层耐蚀性的影响".材料研究学报 .9(2014):668-674.
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