Advanced   Register
IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 期刊论文

题名: 正交电磁场离子源及其在PVD法制备硬质涂层中的应用
作者: 范迪;  雷浩;  宫骏;  孙超
发表日期: 2014-7-25
摘要: 离子源是离子束产生的关键部件,正交电磁场离子源是以霍尔电流为理论基础的一类低能离子源。本文综述了考夫曼离子源、霍尔离子源以及阳极层线性离子源的发展历程及其在结构与功能方面的区别,分析了各种离子源在PVD法制备不同体系超硬涂层中的应用及对涂层结构、性能的影响,概述了国内外离子源的现状,并指出了国内离子源存在的问题。
刊名: 真空
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_期刊论文

Files in This Item:

There are no files associated with this item.




Recommended Citation:
范迪,雷浩,宫骏,等. 正交电磁场离子源及其在pvd法制备硬质涂层中的应用[J]. 真空,2014(4):48-52.
Service
 Recommend this item
 Sava as my favorate item
 Show this item's statistics
 Export Endnote File
Google Scholar
 Similar articles in Google Scholar
 [范迪]'s Articles
 [雷浩]'s Articles
 [宫骏]'s Articles
CSDL cross search
 Similar articles in CSDL Cross Search
 [范迪]‘s Articles
 [雷浩]‘s Articles
 [宫骏]‘s Articles
Scirus search
 Similar articles in Scirus
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院金属研究所  -Feedback
Powered by CSpace