离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构及硬度的影响

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	离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构及硬度的影响
	赵彦辉; 冯丹; 李凤岐; 于宝海
	2014
会议名称	第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
页码	19
会议日期	2014
会议地点	中国湖北武汉
摘要	本文研究了氮离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构、表面形貌、化学成分及硬度的影响。氮离子束采用弧光放电离子源产生,其弧光放电电流为10-40A。研究表明,不同弧光放电电流产生的氮离子束对薄膜组织结构及硬度有明显影响。不同放电电流时沉积的薄膜均呈现出明显的面心立方NaCl-B1类型的TiN结构,且具有明显的(220)择优取向,其衍射峰强度随着电流增加先增大而后降低,薄膜中均为出现明显的金属Cu的衍射峰。薄膜中Cu的含量随着弧光放电电流的增大而降低,其含量在1.14-1.55at.%范围内。薄膜纳米硬度随着放电电流的增加先增加而后降低,在放电电流为30A时达到最大值40.4GPa,与无离子束时(31GPa)相比明显增大。说明离子束对薄膜的致密性有一定改善,促进了薄膜硬度的提高。
部门归属	中国科学院金属研究所 ; 沈阳理工大学
关键词	离子束辅助电弧离子镀 Tin/cu 纳米复合膜组织结构硬度
主办者	中国机械工程学会表面工程分会、中国表面工程协会
语种	中文
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73748
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	赵彦辉,冯丹,李凤岐,等. 离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构及硬度的影响[C],2014:19.