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题名: 轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响
作者: 徐焱良;  王向红;  赵彦辉;  高斌;  肖金泉;  于宝海
发表日期: 2014-10-25
摘要: 采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积了TiN薄膜,考察了弧靶与基体之间等离子通道上的轴向磁场强度(0-300高斯)对薄膜表面形貌、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明,随着轴向磁场的不断增强,等离子体密度及能量密度不断增大,阴极靶斑点处被熔化的靶材区域增大,阴极斑点附近局部蒸气压升高,薄膜表面较大尺寸的大颗粒数、凹坑数量会因此增多,薄膜粗糙度会因此增大;生长取向由(111)面择优转为(220)面择优并最终趋向无择优取向;薄膜表面硬度及弹性模量均呈现先增大后减小的趋势。
刊名: 南昌大学学报(理科版)
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徐焱良,王向红,赵彦辉,等. 轴向磁场强度对真空电弧离子镀tin薄膜的影响[J]. 南昌大学学报(理科版),2014(5):458-462.
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