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轴向磁场对电弧离子镀TiN薄膜组织结构及力学性能的影响
赵彦辉; 郭朝乾; 杨文进; 陈育秋; 肖金泉; 于宝海
2014-11-25
Source Publication中国表面工程
Issue1Pages:56-61
Abstract为了研究轴向磁场对薄膜结构及力学性能的影响规律,采用电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积了TiN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、轮廓仪和纳米压痕仪考察了外加轴向磁场对薄膜化学成分、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明:外加轴向磁场对TiN薄膜的组织结构及力学性能有明显影响。磁场强度越高,薄膜表面颗粒及溅射坑越大,薄膜表面粗糙度增大;薄膜中N含量随着磁场强度增加而增大,而Ti含量则显示出相反的趋势;磁场对薄膜择优取向有明显影响,随着磁场强度增加,薄膜(111)取向增强,而后逐渐转变为(220)择优;薄膜硬度和弹性模量随着磁场强度增加先增加而后降低,在磁场强度为50Gs时分别达到最大值28.4GPa与415.4GPa。
description.department中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部 ; 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
Keyword电弧离子镀 轴向磁场 Tin 硬度
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74054
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
赵彦辉,郭朝乾,杨文进,等. 轴向磁场对电弧离子镀TiN薄膜组织结构及力学性能的影响[J]. 中国表面工程,2014(1):56-61.
APA 赵彦辉,郭朝乾,杨文进,陈育秋,肖金泉,&于宝海.(2014).轴向磁场对电弧离子镀TiN薄膜组织结构及力学性能的影响.中国表面工程(1),56-61.
MLA 赵彦辉,et al."轴向磁场对电弧离子镀TiN薄膜组织结构及力学性能的影响".中国表面工程 .1(2014):56-61.
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