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应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析
郎文昌; 徐焱良; 杜昊; 肖金泉; 高斌; 吴百中
2015-01-25
Source Publication真空
Issue1Pages:39-44
Abstract针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。
description.department温州职业技术学院温州市材料成型工艺与模具技术重点实验室 ; 温州大学物理与电子信息工程学院 ; 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
Keyword矩形平面大弧源 旋转式柱形弧源 机械式旋转磁控弧源 电磁式旋转磁控弧源 多模式动态磁控弧源
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74086
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
郎文昌,徐焱良,杜昊,等. 应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析[J]. 真空,2015(1):39-44.
APA 郎文昌,徐焱良,杜昊,肖金泉,高斌,&吴百中.(2015).应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析.真空(1),39-44.
MLA 郎文昌,et al."应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析".真空 .1(2015):39-44.
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