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IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 期刊论文

题名: 应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析
作者: 郎文昌;  徐焱良;  杜昊;  肖金泉;  高斌;  吴百中
发表日期: 2015-1-25
摘要: 针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。
刊名: 真空
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郎文昌,徐焱良,杜昊,等. 应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析[J]. 真空,2015(1):39-44.
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