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题名: 镁合金微弧氧化技术的研究进展
作者: 董凯辉;  宋影伟;  单大勇;  孙硕;  韩恩厚
发表日期: 2015-3-20
摘要: 结合国内外微弧氧化技术的研究成果,综述了成膜过程火花放电机理及陶瓷层的生长过程,总结了电解液组成、电源类型、工作模式、电参数以及基体材料等对微弧氧化膜性能的影响。根据近年来微弧氧化技术用于镁合金表面处理的发展状况,介绍并分析了几种封孔处理的优化方法,重点介绍了工艺更为简单的原位封孔技术。同时也对镁合金微弧氧化技术的发展趋势和应用前景进行了展望。
刊名: 表面技术
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_期刊论文

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董凯辉,宋影伟,单大勇,等. 镁合金微弧氧化技术的研究进展[J]. 表面技术,2015(3):74-80+99.
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