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磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用
雷浩; 肖金泉; 郎文昌; 张小波; 宫骏; 孙超
2015-03-11
Source Publication中国表面工程
Issue2
Abstract针对磁控溅射和阴极弧离子镀沉积技术存在的局限性,采用有限元分析方法(Finite element method,FEM)进行磁场模拟,优化设计外加电磁线圈的结构和磁场分布位形,并应用于磁控溅射沉积透明导电氧化物和阴极弧离子镀沉积硬质薄膜中。分析了外加电磁线圈磁场对磁控溅射等离子体辉光变化、磁控靶磁场平衡度/非平衡度、以及线圈位置对等离子体特性和靶材利用率的影响。设计和制作了轴对称磁场和旋转磁场,研究了它们对阴极弧离子镀弧斑运动形貌和薄膜表面大颗粒等特性的影响。通过控制弧斑运动状态,可以得到不同程度的颗粒分布,实现颗粒的可控沉积,减少薄膜表面大颗粒的污染。
description.department中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
Keyword外加电磁线圈 磁控溅射 阴极弧离子镀 旋转磁场 弧源设计
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74357
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
雷浩,肖金泉,郎文昌,等. 磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用[J]. 中国表面工程,2015(2).
APA 雷浩,肖金泉,郎文昌,张小波,宫骏,&孙超.(2015).磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用.中国表面工程(2).
MLA 雷浩,et al."磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用".中国表面工程 .2(2015).
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