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轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响
宋贵宏; 肖金泉; 杜昊; 陈立佳
2015-10-25
发表期刊材料研究学报
期号10
摘要在电弧离子镀靶后端加入轴对称线圈磁场,制备了TiN-Cu纳米复合膜。观察线圈磁场强度对靶表面电弧斑点游动速率和弧柱形状的影响,及其对沉积薄膜的表面形貌、沉积速率、纳米压痕硬度和弹性模量的影响。结果表明,提高线圈磁场强度可提高电弧斑点的游动速率,进而降低靶表面金属液滴喷射几率,减小沉积薄膜中大颗粒的尺寸和数量。X射线衍射(XRD)谱显示,沉积薄膜只含有TiN相,未出现金属Cu或其化合物的衍射峰;薄膜呈现明显的(111)晶面择优取向。随着线圈磁场强度的提高薄膜沉积速率、压痕硬度和弹性模量先增加,达到最大值后又略有减少,其最大硬度和弹性模量分别达到35.46GPa和487.61GPa。
部门归属沈阳工业大学材料科学与工程学院 ; 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
关键词复合材料 Tin-cu纳米复合膜 硬度 电弧离子镀 磁场强度 大颗粒 沉积速率
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74527
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
宋贵宏,肖金泉,杜昊,等. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响[J]. 材料研究学报,2015(10).
APA 宋贵宏,肖金泉,杜昊,&陈立佳.(2015).轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响.材料研究学报(10).
MLA 宋贵宏,et al."轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响".材料研究学报 .10(2015).
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