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题名: 轴对称磁场对电弧离子镀TiN-Cu纳米复合膜性能的影响
作者: 宋贵宏;  肖金泉;  杜昊;  陈立佳
发表日期: 2015-10-25
摘要: 在电弧离子镀靶后端加入轴对称线圈磁场,制备了TiN-Cu纳米复合膜。观察线圈磁场强度对靶表面电弧斑点游动速率和弧柱形状的影响,及其对沉积薄膜的表面形貌、沉积速率、纳米压痕硬度和弹性模量的影响。结果表明,提高线圈磁场强度可提高电弧斑点的游动速率,进而降低靶表面金属液滴喷射几率,减小沉积薄膜中大颗粒的尺寸和数量。X射线衍射(XRD)谱显示,沉积薄膜只含有TiN相,未出现金属Cu或其化合物的衍射峰;薄膜呈现明显的(111)晶面择优取向。随着线圈磁场强度的提高薄膜沉积速率、压痕硬度和弹性模量先增加,达到最大值后又略有减少,其最大硬度和弹性模量分别达到35.46GPa和487.61GPa。
刊名: 材料研究学报
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宋贵宏,肖金泉,杜昊,等. 轴对称磁场对电弧离子镀tin-cu纳米复合膜性能的影响[J]. 材料研究学报,2015(10).
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