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题名: CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究
作者: 杜晓明;  王敏鹏;  王燕;  李新喜;  张罡;  黄朝强;  吴二冬
发表日期: 2016-6-20
摘要: 采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究。中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%~4.2%。散射长度密度(SLD)分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少。X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差。
刊名: 原子能科学技术
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杜晓明,王敏鹏,王燕,等. Craln/tialn纳米多层膜界面结构的中子与x射线反射研究[J]. 原子能科学技术,2016(6):1112-1117.
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