CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究

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	CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究
	杜晓明; 王敏鹏; 王燕; 李新喜; 张罡; 黄朝强; 吴二冬
	2016-06-20
发表期刊	原子能科学技术
期号	6 页码:1112-1117
摘要	采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究。中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%~4.2%。散射长度密度(SLD)分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少。X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差。
部门归属	沈阳理工大学材料科学与工程学院 ; 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 ; 中国科学院金属研究所
关键词	中子反射 Craln/tialn多层膜界面结构
资助者	中国工程物理研究院中子物理学重点实验室开放基金资助项目(2014BB05)
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/76008
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	杜晓明,王敏鹏,王燕,等. CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究[J]. 原子能科学技术,2016(6):1112-1117.
APA	杜晓明.,王敏鹏.,王燕.,李新喜.,张罡.,...&吴二冬.(2016).CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究.原子能科学技术(6),1112-1117.
MLA	杜晓明,et al."CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究".原子能科学技术 .6(2016):1112-1117.