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单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理
赵立强; 南泉; 金花子
2016-07-25
Source Publication化学工程师
Issue7Pages:1-5
Abstract采用Stber法,在60℃,正硅酸乙酯(TEOS)浓度为1mol·L~(-1)的条件下制备得到粒径为55nm的SiO_2,多分散指数(Polydispersity Index,PDI)为0.05,显示了良好的单分散性,找到了一种在高TEOS浓度、高温条件下制备单分散纳米SiO_2的方法,并探讨了制备机理。同时还研究了TEOS、水和NH_3·H_2O浓度以及反应温度对产物颗粒粒径及其分布的影响。
description.department青岛科技大学化学与分子工程学院 ; 中国科学院金属研究所表面工程研究部
KeywordStber法 纳米二氧化硅 单分散 制备机理
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/76038
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
赵立强,南泉,金花子. 单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理[J]. 化学工程师,2016(7):1-5.
APA 赵立强,南泉,&金花子.(2016).单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理.化学工程师(7),1-5.
MLA 赵立强,et al."单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理".化学工程师 .7(2016):1-5.
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