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磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征
陈磊; 裴志亮; 肖金泉; 宫骏; 孙超
2017-06-15
Source Publication中国腐蚀与防护学报
Issue3Pages:241-246
Abstract采用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上沉积TiAlN涂层。研究了N_2分压对TiAlN涂层的相结构、化学成分、力学性能、沉积速率、表面粗糙度、结合强度以及摩擦磨损性能的影响。结果表明,N_2分压的变化对涂层的结构与性能影响显著。随着N_2分压的增加,TiAlN涂层呈现(111)择优取向,其硬度最高可达34 GPa。涂层的沉积速率和表面粗糙度随着N_2分压的增大而逐渐降低。此外,由于大颗粒的去除使得涂层表面质量得到提升,所制备的TiAlN涂层均具有较低的摩擦系数(0.15~0.33),并且呈现良好的抗磨损性能,其最低磨损率为8.8×10~(-7)mm~3/(N·m)。
description.department中国科学院金属研究所
KeywordTialn涂层 磁过滤电弧离子镀 结合强度 力学性能 摩擦磨损性能
Funding Organization辽宁省自然科学基金(2013020093)~~
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/77933
Collection中国科学院金属研究所
Corresponding Author陈磊
Recommended Citation
GB/T 7714
陈磊,裴志亮,肖金泉,等. 磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征[J]. 中国腐蚀与防护学报,2017(3):241-246.
APA 陈磊,裴志亮,肖金泉,宫骏,&孙超.(2017).磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征.中国腐蚀与防护学报(3),241-246.
MLA 陈磊,et al."磁过滤电弧离子镀制备TiAlN涂层的结构与性能表征".中国腐蚀与防护学报 .3(2017):241-246.
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