冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备 | |
沈艳芳、熊天英、吴杰 | |
2016-08-17 | |
专利权人 | 沈艳芳、熊天英、吴杰 |
公开日期 | 2016-08-17 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
摘要 | 冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所 |
申请日期 | 2013-11-28 |
语种 | 中文 |
申请号 | 201310626680.3 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/78815 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈艳芳、熊天英、吴杰. 冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备[P]. 2016-08-17. |
条目包含的文件 | 条目无相关文件。 |
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