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剥离涂层下缝隙内电位二维分布测量装置
许进; 孙成; 于长坤; 吴堂清; 闫茂成; 龙康
2017-08-11
专利权人中国科学院金属研究所
专利类型发明专利
专利号201310152359.6
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/79879
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
许进,孙成,于长坤,等. 剥离涂层下缝隙内电位二维分布测量装置. 201310152359.6[P]. 2017-08-11.
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