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电弧离子镀制备致密MCrAlRe型涂层的方法
沈明礼; 王世臣; 朱圣龙; 王福会
2018-09-04
专利权人中国科学院金属研究所
专利类型发明专利
专利号201410591720.X
文献类型专利
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/80072
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
沈明礼,王世臣,朱圣龙,等. 电弧离子镀制备致密MCrAlRe型涂层的方法. 201410591720.X[P]. 2018-09-04.
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