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N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响
杨莎莎; 杨峰; 陈明辉; 牛云松; 朱圣龙; 王福会
2019-03-11
Source Publication金属学报
Volume55Issue:03Pages:308-316
Abstract采用磁控溅射技术,以AISI304不锈钢为基体,通过在溅射过程中引入不同流量的N2,制备出不同程度N掺杂的Ta涂层,研究了少量N掺杂对Ta涂层微观结构、物相组成、力学及磨损性能的影响。结果表明,无N掺杂时,Ta涂层中的物相组成为α-Ta,晶粒粗大,(211)和(110)晶面竞争生长;N掺杂后涂层中的物相组成为TaN0.1,晶粒细小并呈(110)择优取向。少量N掺杂可以显著提高Ta涂层的硬度和弹性模量,并大幅度改善其抗磨损性能。涂层硬度和弹性模量的提高与晶粒细化、N原子固溶及涂层中存在的压应力有关。N掺杂后涂层的磨损机制由磨粒磨损向黏着磨损转变。
KeywordTa涂层 磁控溅射 N掺杂 磨损
MOST Discipline CatalogueTG174.4
Language中文
WOS SubjectTG174.4
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/80528
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation1.中国科学院金属研究所
2.中国科学技术大学材料科学与工程学院
3.沈阳理工大学装备工程学院
4.东北大学沈阳材料科学国家研究中心东北大学联合研究分部
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GB/T 7714
杨莎莎,杨峰,陈明辉,等. N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J]. 金属学报,2019,55(03):308-316.
APA 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,&王福会.(2019).N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响.金属学报,55(03),308-316.
MLA 杨莎莎,et al."N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响".金属学报 55.03(2019):308-316.
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