| 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 |
| 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时
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| 2005
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| 发表期刊 | 材料科学与工程学报
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| ISSN | 1673-2812
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| 卷号 | 23.0期号:003页码:341-344 |
| 摘要 | 应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜，在固定的电源功率下，氩气流量为42．6sccm，氧流量为15sccm，溅射时间为30分钟的条件下，通过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&k Analyzer 1200测量，当温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动；温度对消光系数k影响不大；当温度低于180℃薄膜的折射率变化不大，当温度达到240℃左右时薄膜的折射率明显降低。通过XRD和SEM表征发现，随着温度的增加TiO2的晶体结构由混晶变为单一的锐钛矿相，薄膜表面的颗粒由多变少，表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。 |
| 关键词 | 二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
温度
反射率
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| 收录类别 | CSCD
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| 语种 | 中文
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| CSCD记录号 | CSCD:1960373
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| 引用统计 |
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/87733
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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| 作者单位 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005,23.0(003):341-344.
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| APA |
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,&闻立时.(2005).温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响.材料科学与工程学报,23.0(003),341-344.
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| MLA |
王贺权,et al."温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响".材料科学与工程学报 23.0.003(2005):341-344.
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