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Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银
Alternative TitlePulsed Nd: YAG Laser Induced Chemical Deposition of Ag
孙克1; 赵岩2; 张彩碚1; 李正林2
2002
Source Publication东北大学学报:自然科学版
ISSN1005-3026
Volume23.0Issue:004Pages:391-393
AbstractNd:YAG脉冲激光扫描照射射单晶Si基底表面AgNO3薄膜,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线。在激光功率为2.8W,频率为35HZ时,最高扫描速度为9mm/s,SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面,AES研究沉积线表面元素随深度分布情况,以Ag颗粒为催化为中心,在沉积线表面选区化学镀铜,超声振动显示镀铜膜与基底有良好的结合力,简单分析了沉积线表面Ag颗粒形状及表面凹坑出现的原因。
KeywordNd:YAG脉冲激光 激光诱导化学沉积 选区化学镀 Si基底 硅基底 大规模集成电路
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:982053
Citation statistics
Cited Times:1[CSCD]   [CSCD Record]
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/89855
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation1.东北大学
2.中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
孙克,赵岩,张彩碚,等. Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银[J]. 东北大学学报:自然科学版,2002,23.0(004):391-393.
APA 孙克,赵岩,张彩碚,&李正林.(2002).Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银.东北大学学报:自然科学版,23.0(004),391-393.
MLA 孙克,et al."Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银".东北大学学报:自然科学版 23.0.004(2002):391-393.
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