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中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
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磁控溅射  三氧化二铝  发光薄膜  正交试验  中频反应磁控溅射技术  
TiO2薄膜表面能计算 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  常学森;  巴德纯;  闻立时;  刘坤
收藏  |  浏览/下载：93/0  |  提交时间：2013/08/21
二氧化钛薄膜  表面能  接触角  亲水性能  
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：86/0  |  提交时间：2013/08/21
直流反应磁控溅射  二氧化钛染料敏化太阳电池  表面形貌  二氧化钛薄膜