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抗原子氧侵蚀的有机硅/ 二氧化硅杂化涂层及制备方法和应用 专利
申请日期: 2009-04-29, 公开日期: 2013-06-19
发明人:  多树旺 李美栓 朱明 张亚明 周延春
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