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碳纤维上碳化硅涂层的工艺研究 期刊论文
碳素, 1991, 期号: 1, 页码: 16-21
作者:  郑国斌,沈祖洪,张名大
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碳化硅涂层:7202  碳纤维:5042  涂层厚度:3475  Sici:1825  沉积反应:1380  工艺研究:1377  沉积时间:1275  反应管:847  氯甲基硅烷:766  衍射峰:743