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钼的中温氧化 期刊论文
金属学报, 1965, 期号: 2, 页码: 221-227+283
作者:  李薰,郑逸蘋,银耀德
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氧化速率:7677  氧化过程:3979  氧化时间:2981  毫米汞柱:1779  氧化温度:1598  中温氧化:1580  氧化装置:1572  氧压:1401  氧量:1366  氧化层:1343