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电沉积低开裂敏感性黄铜薄膜研究 学位论文
, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012
作者:  关沂山
收藏  |  浏览/下载:97/0  |  提交时间:2013/04/12
黄铜    非氰化物镀液  电沉积  开裂  生长应力  耐蚀  堆垛层错  Brass  Bi  Non-cyanide Bath  Electrodeposition  Crack  Growth Stress  Corrosion Resistance  Stacking Fault