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金属学报第39卷11... [1]
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中国物理学会 [1]
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PECVD硅烷分解法制备硅层基本规律的研究
学位论文
, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009
作者:
程华
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提交时间:2012/04/10
微晶硅薄膜
Pecvd
Ar放电
沉积速率
组织结构
结晶状态
薄膜稳定性
电学特性
光学特性
结晶状态对铜内耗频率谱的影响
会议论文
金属学报第39卷11期, 合肥, 2003-10-11
作者:
张进修
;
龚康
;
王晓伟
;
朱震刚
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提交时间:2013/08/21
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