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靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14
作者:  王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏  |  浏览/下载：73/0  |  提交时间：2012/04/12
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率  
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 卷号: 42.0, 期号: 1.0, 页码: 11-14
作者:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：77/0  |  提交时间：2021/02/26
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率  
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文
, 深圳, 2004-11-15
作者:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：79/0  |  提交时间：2013/08/21
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率