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2003 [1]
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磁控溅射及多弧镀靶材
成果
2003
完成人/完成单位:
中国科学院金属研究所
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提交时间：2013/07/24
磁控溅射
多弧镀靶材
合金靶材
高纯铬靶
刀具材料
茶色玻璃镀膜
