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Influence of N-2 gas pressure and negative bias voltage on the microstructure and properties of Cr-Si-N films by a hybrid coating system 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology A, 2008, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 1188-1194
作者:  Q. M. Wang;  I. W. Park;  K. Kim
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Cathodic Arc Plasma  Mechanical-properties  Sputtering Techniques  Substrate Bias  Nanocomposite Films  Ion-bombardment  Thin-films  Deposition  Temperature  Hardness  
Study on magnesium ionization in cathodic sputtering glow discharge plasma 期刊论文
Spectroscopy and Spectral Analysis, 1999, 卷号: 19, 期号: 6, 页码: 850-853
作者:  J. L. You;  Z. S. Wang;  G. S. Zhang;  J. S. Ren;  G. C. Jiang
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Glow Discharge  Cathodic Sputtering Atomizer  Atomic Absorption  Spectrometry  Ionic Absorption Spectrometry  Ionization Degree  Atomic-absorption Spectrometry  Atomization  Metals  Alloys  Copper  
COATING THICKNESS DETERMINATION BY CATHODIC SPUTTERING GLOW-DISCHARGE ATOMIC-ABSORPTION SPECTROMETRY (GDAAS) 期刊论文
Analytical Letters, 1993, 卷号: 26, 期号: 3, 页码: 541-556
作者:  J. L. You;  Z. S. Wang;  G. S. Zhang;  J. S. Ren
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Coating Thickness  Glow Discharge  Cathodic Sputtering  Atomic  Absorption Spectrometry