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PECVD裂解SiCl4低温快速沉积氢化纳米晶硅薄膜的研究 学位论文
, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012
作者:  张林
收藏  |  浏览/下载:126/0  |  提交时间:2013/04/12
等离子体增强化学气相沉积法  氢化纳米硅薄膜  微观结构  Pecvd  Nc-si:h Film  Microstructure