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Influence of N-2 gas pressure and negative bias voltage on the microstructure and properties of Cr-Si-N films by a hybrid coating system 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology A, 2008, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 1188-1194
作者:  Q. M. Wang;  I. W. Park;  K. Kim
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Cathodic Arc Plasma  Mechanical-properties  Sputtering Techniques  Substrate Bias  Nanocomposite Films  Ion-bombardment  Thin-films  Deposition  Temperature  Hardness