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掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
真空, 2009, 期号: 2, 页码: 33-37
Authors:  闫绍峰;  骆红;  廖国进;  巴德纯;  闻立时
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三氧化二铝薄膜  中频反应磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料与器件学报, 2007, 期号: 6, 页码: 543-548
Authors:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
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三氧化二铝薄膜  中频反应磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
掺杂浓度对Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料, 2007, 期号: 6, 页码: 872-875
Authors:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
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三氧化二铝薄膜  磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
掺杂浓度对Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料, 2007, 卷号: 38.0, 期号: 006, 页码: 872-875
Authors:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
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三氧化二铝薄膜  磁控溅射  掺杂浓度  光致  发光  Ce  
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料与器件学报, 2007, 卷号: 13.0, 期号: 006, 页码: 543-548
Authors:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
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三氧化二铝薄膜  中频反应磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce