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| 掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文 真空, 2009, 期号: 2, 页码: 33-37 Authors: 闫绍峰; 骆红; 廖国进; 巴德纯; 闻立时
 Favorite  |  View/Download:51/0  |  Submit date:2012/04/12 三氧化二铝薄膜 中频反应磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |
| 掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文 功能材料与器件学报, 2007, 期号: 6, 页码: 543-548 Authors: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
 Favorite  |  View/Download:63/0  |  Submit date:2012/04/12 三氧化二铝薄膜 中频反应磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |
| 中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化 会议论文 真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16 Authors: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
 Favorite  |  View/Download:41/0  |  Submit date:2013/08/21 磁控溅射 三氧化二铝 发光薄膜 正交试验 中频反应磁控溅射技术 |
| 掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al2O3:Ce^3+薄膜发光性能的影响 期刊论文 功能材料与器件学报, 2007, 卷号: 13.0, 期号: 006, 页码: 543-548 Authors: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
 Favorite  |  View/Download:39/0  |  Submit date:2021/02/02 三氧化二铝薄膜 中频反应磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |