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混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜 期刊论文
真空科学与技术学报, 2010, 期号: 3, 页码: 288-292
Authors:  张文杰;  李汝愿;  李瑛;  朱圣龙;  王福会
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Tio2  光催化  磁控溅射  Fe掺杂  
退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响 期刊论文
材料保护, 2010, 期号: 2, 页码: 57-60+81
Authors:  王宏;  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会
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Tio_2薄膜  磁控溅射  退火  光催化活性  
退火对TiO2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响 期刊论文
材料保护, 2010, 卷号: 43.0, 期号: 002, 页码: 57-60
Authors:  王宏;  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会
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TiO2薄膜  磁控溅射  退火  光催化活性  
混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜 期刊论文
真空科学与技术学报, 2010, 卷号: 30.0, 期号: 003, 页码: 288-292
Authors:  张文杰;  李汝愿;  李瑛;  朱圣龙;  王福会
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TiO2  光催化  磁控溅射  Fe掺杂  
Yttrium-doped TiO2 films prepared by means of DC reactive magnetron sputtering 期刊论文
CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL, 2009, 卷号: 155, 期号: 1-2, 页码: 83-87
Authors:  Zhang, Wenjie;  Wang, Kuanling;  Zhu, Shenglong;  Li, Ying;  Wang, Fuhui;  He, Hongbo
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TiO2 film  Reactive magnetron sputtering  Yttrium doping  Photocatalytic activity  Degradation  
磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究 期刊论文
电镀与精饰, 2009, 期号: 3, 页码: 1-4
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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Tio2薄膜  磁控反应溅射  钇掺杂  光催化活性  降解  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 期号: 11, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  Tio2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 期号: 6, 页码: 479-484
Authors:  张文杰;  杨丽丽;  李瑛;  朱圣龙;  王福会
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磁控溅射  Tio2薄膜  沉积条件  表面改性