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Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响 期刊论文
金属学报, 2012, 期号: 11, 页码: 1349-1356
Authors:  时婧;  裴志亮;  宫骏;  孙超;  MUDERS C M;  姜辛
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磁过滤电弧离子镀  Ti-al-si-n薄膜  纳米硬度  结合强度  
Study on nanocomposite Ti-Al-Si-Cu-N films with various Si contents deposited by cathodic vacuum arc ion plating 期刊论文
Applied Surface Science, 2012, 卷号: 258, 期号: 24, 页码: 9642-9649
Authors:  J. Shi;  C. M. Muders;  A. Kumar;  X. Jiang;  Z. L. Pei;  J. Gong;  C. Sun
Favorite  |  View/Download:53/0  |  Submit date:2013/02/05
Ti-al-si-cu-n Films  Cathode Arc Ion Plating  Nanocomposite  Tribological Properties  Mechanical-properties  Coatings  Microstructure  Nitride  Bias  
Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响 期刊论文
金属学报, 2012, 卷号: 48, 期号: 11, 页码: 1349-1356
Authors:  时婧;  裴志亮;  宫骏;  孙超;  Muders C M;  姜辛
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磁过滤电弧离子镀  Ti-Al-Si-N薄膜  纳米硬度  结合强度