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纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究
其他题名A Study on Ultrahigh Strength and High Electrical Conductivity in Copper
卢柯
2004
发表期刊中国科学院院刊
ISSN1000-3045
卷号19.0期号:005页码:352-354
摘要强度和导电性是金属材料两个至关重要的性能,但往往顾此失彼,不可兼得。本研究提出利用纳米尺寸孪晶实现金属强化,以期获得高强度和高导电性。实验采用脉冲电解沉积技术制备出具有高密度纳米尺寸孪晶的纯铜薄膜,其拉伸强度达1068MPa,是普通纯铜的10倍以上,并且室温电导率与无氧高导铜相当(97%IACS)。系统研究了孪晶片层厚度对样品性能的影响。
关键词孪晶 纯铜 沉积技术 金属材料 高导电性 室温电导率 高强度 纳米尺寸 拉伸强度 研究
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:1882108
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/143593
专题中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
卢柯. 纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究[J]. 中国科学院院刊,2004,19.0(005):352-354.
APA 卢柯.(2004).纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究.中国科学院院刊,19.0(005),352-354.
MLA 卢柯."纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究".中国科学院院刊 19.0.005(2004):352-354.
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