| 黄铜在BTA中形成的表面膜特性 | |
| 贺春林1; 韩文安2; 孙秋霞1 | |
| 1996 | |
| Source Publication | 东北大学学报：自然科学版
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| ISSN | 1005-3026 |
| Volume | 17.0Issue:005Pages:525-528 |
| Abstract | 利用伏安法，椭圆偏振法和ＸＰＳ法对黄铜在ＢＴＡ中形成的表面化学转化膜的成分，结构，厚度及导电性进行了结果表明，表面膜层属半导体，膜易被击穿，膜层为双层结构，即黄铜／Ｃｕ２Ｏ／Ｃｕ（Ｉ）ＢＴＡ膜。 |
| Keyword | 黄铜 化学转化膜 苯并二氮唑 表面膜 缓蚀剂 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:294412 |
| Citation statistics |
Cited Times:1[CSCD]
[CSCD Record]
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| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/143753 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 1.东北大学 2.中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 贺春林,韩文安,孙秋霞. 黄铜在BTA中形成的表面膜特性[J]. 东北大学学报：自然科学版,1996,17.0(005):525-528. |
| APA | 贺春林,韩文安,&孙秋霞.(1996).黄铜在BTA中形成的表面膜特性.东北大学学报：自然科学版,17.0(005),525-528. |
| MLA | 贺春林,et al."黄铜在BTA中形成的表面膜特性".东北大学学报：自然科学版 17.0.005(1996):525-528. |
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